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論文

Mechanisms of lamellar structure formation and Cr interfacial segregation in C11b-MoSi2/C40-NbSi2 dual phase silicide verified by a phase-field simulation incorporating elastic inhomogeneity

T. Yamazaki, Y. Koizumi, K. Yuge, A. Chiba, K. Hagihara. T. Nakano, K. Kishida, H. Inui
Mechanisms of lamellar structure formation and Cr interfacial segregation in C11b-MoSi2/C40-NbSi2 dual phase silicide verified by a phase-field simulation incorporating elastic inhomogeneity
Computational Materials Science, Vol.108, Part B (2015), pp.358-366.
doi:10.1016/j.commatsci.2015.04.018

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